光刻机是半导体制造中至关重要、成本最高且国产化率最低的领域。全球市场被荷兰ASML、日本佳能和尼康三大巨头所垄断。 光刻机的核心是光学系统，随着制程尺寸的不断缩小，对光学系统的精度要求也越来越高。目前，只有德国蔡司、日本佳能和尼康等少数公司能够提供超精密光学系统。
我国光刻机产业起步较晚，但上海微电子的22nm光刻机关键技术突破无疑是给国内光刻机产业链注入了强大动力，促进了其快速发展。光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产以及下游光刻机应用三个环节。
光刻机技术非常复杂，需要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输和高精度微环境控制等多个先进技术。一些光刻机型号需要数十万个零部件，因此光刻机的生产往往涉及上千家供应商。
目前最先进的光刻机是EUV光刻机，但这需要将光源技术提升到13.5纳米，这是非常巨大的技术挑战，不可能在短短的两三年内突破。而且，EUV光刻机涉及到全球尖端技术，光源技术只是其中之一。一些国内院士认为，这是一种糖衣炮弹，提醒我们必须坚持自主研发，不断推进技术突破。终于不负所望，近期，上海微电子成功攻克了22nm光刻机关键技术，中国版纯国产“光刻机”即将问世。
我个人看好国产替代的光刻机相关概念公司，原因三个：
一、政策大力支持。二级市场一直以来都是“政策市”，一个板块想要走出很长的趋势，必须离不开政常的支持，就好比最近这两个月AI主线一样，而光刻机的研发恰巧就是国家最重视的，不断有各种措施进行扶持。
二、市场需求。人工智能引爆AI芯片算力，叠加我国数字化进程加快，这些都离不开芯片半导体材料的支持，未来空间是万亿级别。
三、光刻机国产化。我国与发达国家的光刻机产品有着非常巨大的差距，想要不再被卡脖子，国产替代是必经路线，为了科技技术发展能够顺利发展，即使再大的困难也要独立自主实现国产化，就像当年的“两弹一星”。
经过一段时间的复盘和深度挖掘后，梳理了“光刻机”产业链10大上市公司梳理，这10大龙头或将剑指“科技茅”，建议关注收藏！
福晶科技：全球非线性光学晶体龙头，已具备向 ASML 供货能力。 LBO等非线性光学晶体市占率稳居全球第一。
华特气体：全球第四、国内唯一通过 ASML 光刻气认证的公司。
富创精密：是全球为数不多的能够量产应用于7纳米工艺制程的半导体精密零部件制造商，下游客户包括北方华创、上海微电子、中微公司、拓荆科技、华海清科等头部厂商。
华卓精科："浸没式光刻机双工件台产品研制与能力建设"，继 ASML 后全球第二家掌握该技术的公司，在研。
菲利华：国内首家生产 G8 代大尺寸光掩膜板基材公司，打破国外公司的技术垄断
国科精密："高 NA 浸没光学系统关键技术研究"，通过验收。
启尔机电："浸液系统产品研制与生产能力建设"，基础设施建设中。全球第三家具有光刻机浸没式系统研发能力的公司。
苏大维格：公司基于光刻机的核心技术，形成了平台化的技术布局。并向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅部件，属于该类光刻机的核心器件。
晶瑞股份："i 线光刻胶产品开发及产业化"，通过验收。"KrF (248nm)光刻胶研发"，在研，打破国外 KrF 光刻胶绝对垄断。
芯源微 ："凸点封装涂胶显影、单片湿法刻蚀设备的开发与产业化"，打破国外涂胶显影设备垄断，量产。"300mm 晶圆匀胶显影设备研发"，量产。
蓝英装备：是全球领先的清洗系统和表面处理设备及解决方案提供商，也是国内唯一的一家全球性工业清洗设备和服务供应商，与荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）保持长期合作。
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