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作者/星空下的锅包肉
编辑/菠菜的星空
排版/星空下的韭菜
近日，华为新手机问世，整个半导体行业都嗨了。
这是因为，华为新款手机Mate60 Pro，搭载了新型麒麟9000s芯片。而经不少专业人士拆解分析，这款麒麟9000s芯片，或采用了先进的7nm工艺制程。
要知道，在芯片制造中，28nm工艺制程是一个分界线。28nm及以上工艺相对成熟，已基本实现国产替代。但是14nm及以下先进制程，却一直是短板。尤其是先进制程所需用到的光刻机、光刻胶一直是“卡脖子”的核心环节。
来源：环球网2022年8月
而如今，华为手机竟然搭载了7nm制程的芯片。难不成，华为已经成功突破技术封锁，彻底解决了卡脖子问题？
受此消息影响，整个半导体板块沸腾。9月6日，国内两大光刻胶头部企业彤程新材(603650)、晶瑞电材(300655)股价分别大涨7.26%、13.52%。
但很遗憾，这一切，恐怕又是一场股民朋友的自嗨。
一、从0到1，路漫漫其修远兮
严格来讲，华为芯片并非华为生产。华为只负责芯片设计，至于麒麟9000s芯片由谁代工生产，尚不清楚。不过可以明确的是，纯中国制造。
而纯中国制造，要解决的一大难题，就是——光刻。
光刻工艺是芯片制造的核心流程，也是整个过程中耗时最长、难度最大的工艺。光刻耗时占IC制造50%左右，成本约占IC 生产成本的1/3。
来源：国元证券
提起光刻，大家首先想到的可能是光刻机的技术垄断。通常，要满足10nm以下的晶圆制造，EUV光刻机必不可少。那么如今国产制造出7nm芯片，是打破了EUV光刻机的技术壁垒？恐怕并非如此。
且不说我国尚不具备制造EUV光刻机的能力，就连配套用的光刻胶，都是一道不小的阻碍。
光刻胶是光刻过程最重要的耗材。不同的工艺制程，对光刻机有不同的要求。而光刻机不同，光刻机精度不同，需要配套的光刻胶要求也不同。
具体来说，光刻胶分为半导体光刻胶、平板显示用光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒最高，种类主要包括紫外宽谱、g 线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）光刻胶。
各种光刻胶名称，代表着光刻机光源的种类，对应着不同的激光波长（即括号中的数字）。通常来说，波长越短，加工分辨率越佳。
来源：太平洋证券研究院
EUV光刻机配套的EUV光刻胶，对应波长13.5nm。而国产光刻胶，还远未达到这个水平。
目前，国内光刻胶生产企业主要有六家：
容大感光（300576）：主要生产PCB光刻胶，至于半导体用光刻胶，主要有g线、i线光刻胶。其中g线对应波长436nm，i线对应波长365nm，与先进水平隔了好几代；
彤程新材、晶瑞电材：二者进度相似，整体处于KrF光刻胶已完成量产出货，ArF光刻胶在研发送样过程中。而KrF光刻胶对应波长248nm，通常适用0.13-0.25μm集成电路；ArF光刻胶对应波长193nm，一般也只适用于65-130nm集成电路；
南大光电（300346）：两款ArF光刻胶通过验证，多款胶正在验证中。目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺；
上海新阳（300236）、华懋科技（603306）：相对领先，已布局ArFi光刻胶，对应波长193nm（等效134nm）,可适用于7-65nm集成电路。但即便如此，仍与EUV光刻胶，存在本质差距。
总体来说，国内不仅EUV光刻机尚未突破，EUV光刻胶也暂处空白。由此可见，华为7nm芯片虽然问世，但背后恐怕并非EUV光刻机、EUV光刻胶的功劳。
事实上，目前广泛使用的DUV光刻机也可以用于制造7nm制程的芯片，但需要经过多重曝光。而每多一次曝光，耗时和成本都会增加一倍，而且良品率也难以控制。
所以，华为这一场盛宴背后，究竟付出了多大的代价还很难说。不知由其引发的半导体狂欢，又能到几时？
二、光刻胶虽必不可少，但却并非大赛道
说回光刻胶。目前，EUV光刻胶主要被日企垄断。不过，国产光刻胶也有自己的应用市场。比如i线光刻胶，已规模化向国内半导体企业供货。另外如前所说，彤程新材、晶瑞电材均已实现KrF光刻胶（或部分品种）的量产出货。只是从数据来看，光刻胶的业绩贡献，却并不可观。
首先，从行业整体来看，光刻胶虽必不可少，但却并不是一个大的赛道。
2022年，全球光刻胶市场规模26.4亿美元，折合人民币，全球市场不到200亿。而且，根据国际半导体产业协会统计，2023年一季度，全球光刻胶市场同比下降12.38%，环比下降12.29%。
国内来看，2022年中国大陆市场规模5.93亿美元，折合人民币大约只有40+亿。
来源：彤程新材2023年半年报
其次，国产光刻胶企业能拿到的市场份额，更是少得可怜。
2023年上半年，彤程新材半导体光刻胶实现销售收入8258万元，晶瑞电材光刻胶实现收入6942万，占公司整体营收比例分别只有6%、11%。
而且与上年同期相比，彤程新材光刻胶收入基本持平，晶瑞电材则同比下降了8.73%，另外毛利率也同比下降了4.38%。
来源：晶瑞电材2023年半年报
总体来说，在当前的技术水平下，彤程新材和晶瑞电材不仅光刻胶市场规模不大，而且增长疲软。光刻胶企业都在押注技术的突破，只是谈何容易。
三、国产技术突破，面临诸多挑战
光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，属典型卡脖子材料，其配方必须精确控制化学成分的量和比例；生产工艺必须精确控制温度、压力、时间等参数。任何一个错误都可能导致光刻胶的质量问题。
目前，高端产品的研发和生产主要由日系 JSR、信越化学、东京应化等少数公司所垄断。国产光刻胶企业只能通过加大研发力度以求有所突破。
在这个层面，彤程新材要比晶瑞电材的研发投入力度更大。2023年上半年，彤程新材研发投入8,235.80万元，大约是晶瑞电材的2.8倍。
不过，光刻胶的特殊之处在于，只有研发投入还不够。
首先，光刻胶是光刻机的配套耗材。所以要研制光刻胶，少不了要配套光刻机。
2020年下半年、2021年下半年，晶瑞电材分别购入了ASML1900 Gi 型光刻机及配套设备、尼康 KrF S207 光刻机及配套设备，建成了ArF、 KrF 光刻实验室。但换个角度想，国外已对EUV光刻机实施禁令。这是不是也就意味着，在国产EUV光刻机取得重大进展之前，EUV光刻胶的研发，也将基本处于停滞状态？
其次，光刻胶上游原材料如树脂、光引发剂仍然依赖进口。在光刻胶用树脂方面，日本、美国等国家的企业长期占据着主导地位。在高端光引发剂领域，国内企业的技术水平和产品质量还有待提高。
巧妇难为无米之炊。光刻胶的发展，仍面临诸多挑战。
注：本文不构成任何投资建议。股市有风险，入市需谨慎。没有买卖就没有伤害。
